一、全掩膜工程的重要性
掩模是制造芯片必不可少的关键技术之一。掩模可以帮助芯片制造厂商在芯片表面上添加不同种类的电路，并且可以控制电路的大小、形状和布局。为了保证芯片的质量和性能，制造厂商必须使用掩模来控制电路的形状和布局，并且确保掩模图案的复杂度和精度。
全掩膜工程产品流片制作过程涉及到多个环节，包括设计、制作、检测等。其中，设计环节决定了掩模图案的形状和布局，而制作和检测环节则决定了掩模图案的精度和准确性。因此，掩模制作是芯片制造技术中最为重要的环节之一。
二、全掩膜市场前景
2023年以来，半导体企业投入大量资金不断扩产，将带动掩膜版市场需求的上涨，同时，半导体的更新迭代也会进一步推动掩膜版需求上升，市场规模保持持续增长趋势。在如此旺盛需求背景下，掩膜版企业纷纷加入扩产行动，以抢占市场份额。
随着5G、人工智能等新兴技术的不断发展，掩膜版的需求量将会持续增长。根据SEMI数据显示，2022年全球掩膜版市场规模达到52亿美元，预计2023年市场规模将达到54亿美元左右，较上年增长4%。随着国内半导体产业的不断发展，作为关键材料的掩膜版将出现供不应求的状况，市场规模呈现快速增长态势。
三、深圳全掩膜工程产品流片扶持政策
作为全国新兴科技产业发展的重要阵地，深圳的集成电路产业不论是在水平，还是产业规模上，都一直走在前列，已连续6年位居全国芯片设计行业第一。
当然这背后离不开企业自身的努力和政府多年的政策扶持。在政策上，深圳发布了多项补贴以减少企业的研发成本，并鼓励企业加大研发：
（一）深圳市补贴政策
对首次完成全掩膜工程产品流片的企业，给予首次完成全掩膜工程产品流片费用最高50%、年度总额不超过500万元的资助。
（二）坪山区补贴政策
对集成电路设计企业首次完成掩膜（FullMask：IP授权费、掩膜版费、加工费等）工程产品流片项目，按企业流片费用的30%，给予最高 500 万元资助。对利用坪山区集成电路生产线首次完成掩膜工程产品流片的，按企业流片费用的30%，给予最高 600 万元资助。
（三）龙岗区补贴政策
对于完成小于90nm全掩膜工程产品流片的项目，给予不超过流片费用（含掩膜版）30%的扶持。
其中，工艺制程小于90nm、大于45nm（不含）的，单个项目最高扶持50万元；小于45nm、大于28nm（不含）的，单个项目最高扶持200万元；小于28nm的，单个项目最高扶持300万元。同一项目只扶持1次，同一企业每年累计获得扶持总额不超过500万元。
（四）福田区补贴政策
对于首次完成全掩膜工程产品流片的企业，根据工艺制程按上年度流片实际发生费用最高30%，给予最高1000万元的支持。
（五）罗湖区补贴政策
支持企业流片，对符合要求的，按上级相关部门扶持金额的50%给予配套扶持，最高不超过300万。
2022年，深圳市发展和改革委员会发布《深圳市关于促进半导体与集成电路产业高质量发展的若干措施（征求意见稿）》，提出将积极协调深圳支持建设的集成电路生产线和中试线开放一定产能，服务深圳中小设计企业的流片需求。支持集成电路设计企业加大新产品研发力度，重点支持集成电路设计企业流片和掩模版制作。
其中对于使用多项目晶圆进行研发的深圳企业，最高给予该款产品首轮掩膜版制作费用的50%和直接流片费用70%、年度总额不超过500万元的补助；
对于首次完成全掩膜工程产品流片的深圳企业，最高给予该款产品首轮掩膜制作费用50%和流片费用50%，年度总额不超过700万元的补助。
可见随着集成电路产业市场规模的加大，全掩膜工程产品流片补贴力度也在提高，更多资讯欢迎咨询达晟信息。
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