关于流片补助政策，深圳市级和区级都有发布补贴政策！
一、深圳市流片补助政策
1、对于使用多项目晶圆进行研发的企业，给予多项目晶圆直接流片费用最高70%、年度总额不超过300万元的资助；
2、对于首次完成全掩膜工程产品流片的企业，给予首次完成全掩膜工程产品流片费用最高 50%、年度总额不超过 500 万元的资助。
二、龙岗区流片补助政策
1、流片补助扶持范围为近两年获得市级流片支持的集成电路设计企业，对集成电路设计企业参加MPW（多项目晶圆）项目的，经核准符合条件的，按不超过市级资助资金的20%，给予最高60万元补助；
2、对集成电路设计企业首次完成全掩膜工程产品流片的，经核准符合条件的，按不超过市级资助资金的50%，给予最高250万元流片补助。
三、南山区流片补助政策
1、对集成电路企业首次工程流片进行支持，按照上一年度首次工程流片费用(含掩模版制作、流片等)的10%给予补贴：
（1）大于28nm(含)的工艺节点，每家企业每年最高补贴150万元；
（2）7nm（不含）到28nm（不含）节点，每家企业每年最高补贴300万元；
（3）小于7nm（含）节点，每家企业每年最高补贴1000万元。
2、对使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业，按照上一年度MPW流片费用的10%给予补贴：
（1）大于28nm(含)的工艺节点，每家企业每年最高补贴100万元；
（2）7nm(不含)到28nm（不含）节点，每家企业每年最高补贴200万元；
（3）小于7nm(含)以下节点，每家企业每年最高补贴500万元。
四、坪山区流片补助政策
1、集成电路设计企业进行MPW（多项目晶圆）项目，按直接费用的50%，给予单个企业年度最高300 万元资助。
2、利用坪山区企业开展MPW的，按上述比例，给予单个企业年度最高500 万元资助。
3、对集成电路设计企业首次完成掩膜（FullMask：IP授权费、掩膜版费、加工费等）工程产品流片项目，按企业流片费用的 30%，给予最高 500 万元资助。
4、对利用坪山区集成电路生产线首次完成掩膜工程产品流片的，按企业流片费用的30%，给予最高600万元资助。
五、龙华区流片补助政策
对上年度获得深圳市集成电路设计企业流片支持的，给予深圳市资助金额最高30%、不超过250万元流片资助。
六、罗湖区流片补助政策
支持企业流片，对符合条件的企业，按上级相关部门扶持金额的50%给予配套扶持，最高不超过300万元。
七、光明区流片补助政策
1、支持智能传感器企业开展高端智能传感器首轮流片，按照工程产品首轮流片费用(含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等)的 30%给予补贴，单个企业年度最高补贴不超过300万元；
2、鼓励企业利用光明区 MEMS 中试平台流片，按首次流片费用的 60%给予补贴，单个企业年度最高补贴不超过 600 万元。
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